钛靶，纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。

可用于以下涂层工艺 · 反应磁控溅射. 基于铝、钛、锆、铬和陶瓷的硬质材料层和装饰层通过反应磁控溅射应用于工具、部件和其他产品。 在真空室中，涂层材料放置在要作为溅射 ...

Nov 14, 2022 · 钛靶是被高速带电粒子轰击的靶材。钛靶是制备薄膜的主要材料之一，主要用于集成电路、平板显示器、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料的纯度和稳定 ...

Oct 10, 2023 · 钛靶材是由纯钛或其合金通过特定的工艺制备出的具有特定形状（如圆形，方形或者其他复杂的形状）和精细表面的靶材。"靶"在这里是一个术语，主要用于涉及 ...

钛靶材将在芯片前制造过程中与钛环一起使用。主要功能是辅助钛靶材的溅射工艺，主要应用于超大规模集成电路芯片制造领域。

Sep 10, 2021 · 钛靶材作为靶材领域的独特一个分支无论在半导体A1工艺或Cu工艺下都有应用，同时在液晶显示器行业和装饰镀膜行业有着广泛的应用。目前钛靶材研发生产的基地 ...

纯度, : 4N+ ; 形状, : 平面靶 ; 外观, : 银灰色带金属光泽 ; 典型密度, : 14.52g/cm³ ; 常规尺寸, : 方形平面靶: L400mm 圆形平面靶: Φ440mm 其它尺寸可定制 ...

我们的钨钛溅射靶具有较高的纯度和密度以及均匀的微观结构。这意味着您将受益于较高的溅射速度和一致的溅射速率。

Dec 2, 2023 · 钛靶材（Titanium Target）是一种由钛元素制成的靶材，常用于薄膜沉积技术中，如物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。纯度是靶材的主要性能指标之 ...